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技術文章

基材

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基材

特殊激光應用的基材,如腔環(huán)時間光譜或EUV鏡的特點是:

Ø•的幾何形狀:

 對于直徑,厚度,緯度或曲率半徑等幾何特性的公差,請參見我們目錄的第12頁

Ø• 表面粗糙度

Ø•表面形狀公差

Ø•拋光表面上的缺陷數(shù)量。

ØLAYERTEC已經(jīng)優(yōu)化了所有這些參數(shù)的拋光程序。在下文中,我們展示了使用熔融二氧化硅和氟化鈣實現(xiàn)的一些突出的成果。

 

規(guī)格

Ø表面粗糙度

Ø•對于熔融二氧化硅和氟化鈣的平面基板,RMS - 粗糙度<1.5Å

Ø•平滑彎曲的球形熔融石英表面(取決于直徑和曲率半徑)的相似結果,

Ø•即使在紫外線范圍內(nèi),基板的散射損耗也很低:

Øo在248nm處的TS = 2×10 -5(總后向散射)

Ø在193nm處,TS = 5.6×10 -4(總后向散射)和7.5×10 -4(前向散射)

Ø即使在DUV / VUV波長范圍內(nèi)也適用于低損耗光學元件

 

高質量拋光熔融石英基板的功率譜密度(PSD)曲線(在FhG IOF Jena進行測量)

高質量拋光CaF2基板的3D AFM測量(在FhG IOF Jena進行),均方根粗糙度為0.12nm

 

表面容差

Fused silica

Plane

λ/20 (633nm) for diameters of 6.35mm … 101.6 mm

Spherical

λ/10 (633nm) for diameters of 6.35mm … 38.1mm

CaF2

Plane

λ/10 (633nm) for diameters of 12.7mm … 25.4 mm

λ/4 (633nm) for diameters of 38.1mm … 50.8 mm

Spherical

λ/4 (633nm) for diameters of 12.7mm ... 50.8mm

 

表面質量

Material

ISO 10110 (∅25mm)

Approximay equivalent to MIL-O-13830

 

 

 

Fused Silica

5/1x 0.010 L1x 0.0005

Scratch - Dig 5 - 1

CaF2

5/1x 0.016 L1x 0.0010

Scratch - Dig 10 - 2

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